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第38章 两种光刻技术的发展前景(2 / 2)

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“问是你问的,回答是我说的,你若想知道,我为何这么说,那你就闭嘴!”

“不愿意听,那还是别说了,我可非常谢你们把我从源天霸手中救出来呢!”

瞅着苏浩如此不客气的出言挑衅,这让柳小峰眼色瞬间阴沉下来,想反驳却有道理。

是他说话打断在先,并且说的话也的确在理,国内的光刻领域……还真就没好前景。

“小峰,少说两句,让苏浩先生把话说完。”颜老在旁也是有些不客气的不悦。

柳小峰的不悦,顿时就消散了,略微点头表示抱歉,示意苏浩继续说下去:“我听着。”

“话说到哪里了?搞得我都有些乱了。”欲要说些什么,却不知道说到哪里了。

颜老出言提醒道:“电子束曝光技术,最小不过100nm,之后呢?”

“啊对!”苏浩一拍手想起来了,简单理一理思绪后,继续说。

“电子束曝光技术,对于国外来说是几十年前的技术了,对国内来说却是个全新领域。”

“经过不少前辈的潜心研究,在电子束曝光技术中,衍变开发出了一种新技术。”

“圆形电子束光刻!”听到此的柳小峰,忍不住惊呼了出声:“苏浩先生,此话怎讲?!”

圆形电子束光刻,极限分辨率能达到大于10nm,对于国内的光刻领域来说,是个过山车似的突破!

电子束曝光技术,极限分辨率也不过才100nm,从其中衍变出来的技术,却能达到大于10nm!

还真别说,这个技术,还真是国内,乃至国外的行业巨头,也在研究的技术之一。

这是在,没有外国专家的帮助下,国内的科研大佬自己摸索出来的。

与其说,圆形电子束光刻,乃是国内最为先进的光刻技术。

倒不如说,电子束曝光技术,才是国内最为先进的技术摇篮。

这个回答也没有毛病,因为两种光刻技术,都从两个层面上,回答了所提问的问题。

“没错,”迎着柳小峰点头,能够说出圆形电子束光刻,说明也是有所涉及,那还有得聊。

“虽然圆形电子束光刻,能够让国内光刻领域,进入大于10nm时代,却是极其不稳定的技术。”

“这方面所涉及的东西太多了,我就不一一和你们说了,我挑重点说。”

“从电子束曝光技术衍变出来的技术,乃都是采用直接写的技术,在掩膜版的制备过程占据主要地位。”

“但也正因为这两种技术都基于直接采写,所以曝光的速度会很慢很慢,在大体上属于中看不中用吧。”

“最为关键的是,电子束的轰击衬底也会残生缺陷,一个不好所有投资就是打水漂。”

“综体来说,这两种技术虽然不大实用,却也是国内目前拿得出手,并且是成熟的技术。”

“若非要说的话,纳米激光技术也必须排的上名号,但这种技术对于国内而言,还言之过早。”

说到此,柳小峰不由得,再次打断苏浩的话,他有些诧异的反问。

“我是问,国内最先进的技术。”

“并不是问你,国内光刻技术的发展前景。”

虽然回答让他们很满意,可却没彻底回答,到底是什么技术。

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